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高压水射流清洗电解铜棒表面硫酸镍结晶、铜氧化层技术
作者:管理员    发布于:2023-03-19 10:04:58    文字:【】【】【
摘要:高压水射流清洗的原理是利用水射流的瞬间冲击力去除电解铜棒表面硫酸镍结晶、铜氧化层,从而达到清洗的效果。

高压水射流清洗电解铜棒表面硫酸镍结晶、铜氧化层技术说明

1、高压水射流清洗的原理是利用水射流的瞬间冲击力去除电解铜棒表面硫酸镍结晶、铜氧化层从而达到清洗的效果。选择适合的清洗压力和流量是至关重要的, 若压力不足则无法去除铜棒表面硫酸镍结晶、铜氧化层,若压力过高,虽然可以去除铜棒表面硫酸镍结晶、铜氧化层,但增加前期投资成本和后期使用成本若流量过小,则去除铜棒表面硫酸镍结晶、铜氧化层时间过长,效率达不到去除的技术要求,若流量过大,则会增加前期水处理投资和后期水循环再使用成本。因此,根据我们公司在高压水射流清洗设备的经验和国外的相关资料,我们建议压力旋转在140-160MPa,铜棒外表面清洗每个喷嘴的流量在12-15L/min之间,铜棒内表面的清洗采用管道清洗喷嘴,流量在20-30L/min之间。如果现场有条件的话,最好用高压水射流清洗机做一个去除铜棒表面硫酸镍结晶、铜氧化层试验。这样,可以更准确的把握高压水射流清洗设备的压力和流量。    

2、高压水射流去除电解铜棒表面硫酸镍结晶、铜氧化层的优点
  1) 提高去除铜棒表面硫酸镍结晶、铜氧化层的品质及清洗精度
  具有巨大能量且以超音速射出的高压水射流,完全能够去除铜棒表面硫酸镍结晶、铜氧化层及表面污物,由于高压水的压力小于金属的抗压强度等级,控制适合的清洗压力不会损伤被清洗对象的基体。
  2) 适用范围广
  高压水射流清洗去除铜棒表面硫酸镍结晶、铜氧化层能清洗形状及结构较为复杂的各种零部件,易于机械化、自动化。
  3) 节能环保
  节能、省水、清洗成本低,高压水高压水射流清洗去除铜棒表面硫酸镍结晶、铜氧化层,使用的主要介质是水,来源容易,普遍存在,故清洗成本低,大约只有化学清洗的1/3左右。由于高压水清洗方式属细射流喷射,所用的喷嘴直径只有几毫米,故耗水量少,属节水节能设备。
  4) 无环境污染
  由于高压水清洗是以水为介质,因而高压水清洗不像喷砂抛丸及简单的机械清洗那样产生大量粉尘,污染大气环境,损害人体健康;也不像有些化学清洗那样,产生大量废液污染河道、土质和水质。以水为介质,无臭、无味、无毒,因此不会造成任何污染。此外,高压水清洗液的回收在技术上也相对容易。

 


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